工件加热到高于Ac3或Ac1的温度，保持适当时间后，较快的冷却到珠光体转变温度区间的适当温度并等温保持，使奥氏体珠光体组织后在空气中冷却的退火。武汉半导体生长炉等温退火的奥氏体化温度一般与完全退火相同，对于合金含量较高的大型铸锻件可适当提高加热温度。武汉半导体生长炉等温温度越低，退火后的硬度越高。 等温退火后的组织与硬度均匀性优于完全退火，比较适合于与大型合金钢铸件。

燃料种类：与燃料热值及燃烧的产物量有关，热值越高、燃烧产物量越低，燃烧温度越高。武汉半导体生长炉燃料和助燃空气的温度：它们的温度越高，直接带入的显热越多，可提高燃烧温度。武汉半导体生长炉98彩票线路导航空气过剩系数：适当的空气过剩系数，可以保证有较高的燃烧温度。一般α略大于1过小，不完全燃烧；过大生成的烟气量多，会使燃烧温度降低助燃风中氧气的浓度：提高氧气浓度，将使燃烧产物减少，可以提高燃烧温度。炉体散热状况及炉内产品传热速度。

连续光亮退火炉用途：用于不同规格铜直管棒、钢管、铝管或盘园在控制气氛下连续光亮退火特点：工件连续通过预热、加热、保温、缓冷、冷却，不受长度限制。武汉半导体生长炉传动采用托辊式同步传动，变频调速，平稳可靠。武汉半导体生长炉通保护气氛和强力的热气氛循环，温度均匀，内外表面十分光亮。冷却区设计独特，保证工件均匀冷却。处理的产品内外表面光亮，产品质量高，生产率高。加热方式：电加热或燃气加热

球化退火只应用于钢的一种退火方法。武汉半导体生长炉将钢加热到稍低于或稍高于Ac1的温度或者使温度在A1上下周期变化，然后缓冷下来。武汉半导体生长炉98彩票线路导航目的在于使珠光体内的片状渗碳体以及先共析渗碳体都变为球粒状，均匀分布于铁素体基体中这种组织称为球化珠光体。具有这种组织的中碳钢和高碳钢硬度低、被切削性好、冷形变能力大。对工具钢来说，这种组织是淬火前的原始组织。

加热元件采用高温合金电阻带经特殊加工成形，采用耐热陶瓷螺钉固定，既保证绝缘又能保证加热元件的快速散热性，从而确保其使用寿命比一般厂家长二到三倍，并且杜绝其在运行中的断路现象。武汉半导体生长炉退火炉的控温系统采用多区PID智能控温方法，利用可控硅三相过零触法能自动智能调节输出功率百分比，使温度完全按照工艺编程指令要求。武汉半导体生长炉控温精度小于等于一摄氏度，炉膛有效空间温度均匀性达到正负三摄氏度，有效确保工件不过烧，不熔氧，又能力保证工件热处理合格率达到百分之一百。