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退火炉是用于制造半导体器件的过程，该过程包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。 热处理旨在实现不同的效果。 可以加热晶圆以激活掺杂剂，将薄膜转化为薄膜，或者将薄膜转化为晶圆基材界面，制成致密沉积的薄膜，改变生长薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或涂料 药剂从一个膜转移到另一膜或从膜转移到晶片衬底。
退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，也可以单独处理。 退火炉由专门设计用于加热半导体晶片的设备完成。 退火炉是一种具有超节能结构和纤维结构的节能循环式操作炉，可节电60％。
退火炉是一种金属热处理工艺，可将工件加热到预定温度并在一定时间后缓慢冷却。
详情如下所示：
98彩票线路导航1.改善或消除钢在铸造，锻造，轧制和焊接过程中引起的各种结构缺陷和残余应力，并防止工件变形和开裂。
2.软化要切割的工件。
98彩票线路导航3.细化晶粒并改善结构，以改善工件的机械性能。
4.准备组织进行最终热处理（淬火，回火）。
退火炉的工作原理：
通过风扇的循环，退火炉的炉腔内的温度分布均匀地分布。 退火炉的两个炉腔可以独立运行，提高了退火效率。 每个炉腔中有两个风扇，但没有空气过滤器，与实际情况有所不同。 通过风扇循环使炉内温度分布均匀，并通过热处理重组薄膜材料的微观结构，以提高稳定性和转化效率。 将铸件加热到大约950°C，并在一定时间后冷却以消除钢铸件和焊件的内部应力。 对于钢材，奥氏体开始形成的温度比该温度低100至200°C，冷却后，可通过在空气中冷却来消除内部应力。
